ОАО «РОСНАНО» и ОАО «СИТРОНИКС» сообщают об открытии производства микросхем на основе технологии 90 нм.

20.02.2012

ОАО «РОСНАНО» и ОАО «СИТРОНИКС» сообщают об открытии производства микросхем на основе технологии 90 нм. Запуск новой линии позволит нарастить производственную мощность завода в два раза до 36 тысяч пластин диаметром 200 мм в год. Общий бюджет проекта составляет 16,5 млрд рублей, включая софинансирование РОСНАНО в размере 6,5 млрд рублей.

Торжественное открытие линии по производству микросхем с проектными нормами 90 нанометров состоялось на зеленоградском заводе «Микрон». От перерезания традиционной красной ленты в этот раз решили отказаться — новое производство открыли с помощью смарт-карты.

В торжественной церемонии приняли участие вице-премьер Правительства РФ Дмитрий Рогозин, представители компаний «РОСНАНО» и «СИТРОНИКС», а также представители заинтересованных ведомств.

«Собственная компонентная база обеспечивает независимость государства, поэтому то, что делают коллеги из СИТРОНИКС и РОСНАНО, будет полностью поддерживаться со стороны руководства страны, — прокомментировал заместитель Председателя Правительства Российской Федерации Дмитрий Рогозин. — В ближайшее время на заседании Военно-промышленной комиссии мы рассмотрим состояние элементной базы в России и те меры, которые необходимо принять для обеспечения полной технологической независимости».

Продукция нового производства позволит отечественным производителям выйти на рынок 16- и 32-разрядных микроконтроллеров и микропроцессоров, систем на чипе (SoC), оперативной памяти и специализированной логики.

«Для нас этот проект является стратегически важным, — отметил Генеральный директор ОАО «РТИ» Сергей Боев, — В основе любой инновации лежат достижения в области микро- и наноэлектроники. Россия стала восьмой страной в мире, обладающей технологией 90 нм, и это позволит отечественным производителям занять ниши на рынках промышленной электроники, смарт-карт, систем мониторинга и безопасности».

В новом технологическом процессе используется 9 уровней металлизации (против 5 для 180 нм), в том числе медь. Это позволяет увеличить степень интеграции микросхем в 3 раза, быстродействие микрочипа в 1,7 раз и снизить энергопотребление в 1,5-2 раза по сравнению с продукцией, произведенной по технологии 180 нм.

«Успешный запуск проекта позволяет создать платформу для дальнейшего развития отечественной микроэлектронной отрасли и своевременно выйти на глобальный растущий рынок. Сейчас в мире доля продукции на чипах с топологией 90нм и выше составляет около 75%. Этот проект — яркий пример совместных государственных и частных инвестиций в высокотехнологичное производство», — заявил заместитель председателя правления ОАО «РОСНАНО» Андрей Малышев.

Микросхемы, изготовленные по технологии 90 нм, будут использоваться в вычислительных комплексах, системах автоматизации производства, загранпаспортах, смарт-картах и применениях, связанных с электронным правительством. Отечественная производственная база позволит российским высокотехнологичным компаниям создавать устройства с уникальными свойствами, обеспечивающими их выход на мировые рынки.

«Производство полного цикла с R&D-центром позволит нам встроиться в мировой рынок, используя собственные ноу-хау и технологии. Проект создает условия для возрождения российской «Кремниевой долины» и воспитания кадров мирового уровня, — заявил Президент ОАО «СИТРОНИКС» Сергей Асланян. — Мы собрали лучшую в России команду инженеров и ученых, около 300 специалистов прошли стажировки на ведущих мировых производствах, а десятки инженеров, уехавших на работу за рубеж, возвращаются».

«Помимо выпуска серийной продукции, проект станет R&D-базой по тестированию и коммерциализации ноу-хау российских компаний в области микроэлектроники», — отметил руководитель «СИТРОНИКС Микроэлектроника» Геннадий Красников.

Для старта новой линии на заводе «Микрон» дополнительно построено 700 м2 чистых зон и расширена инфраструктура фабрики, установлено 45 дополнительных единиц оборудования. Всего в проекте приняли участие более 50 компаний из 12 стран мира. Более 110 инженеров завода прошли стажировки на партнерских производствах и исследовательских базах за рубежом.

Производственный цикл по техпроцессу 90 нанометров занимает трия месяца, первой готовой продукцией новой линии в конце мая этого года будут чипы памяти SRAM (Static Random Access Memory).

Последовательное развитие по минимизации топологических размеров до 65–45 и дальше на новом предприятии уже невозможно. Микросхемы по нормам 65–45 нанометров нужно выпускать на пластинах большего диаметра — 300 мм, а значит строить новую фабрику.

Существующий проект по строительству такого предприятия в рамках частно-государственного партнерства на площадке «Алабушево» зеленоградской особой экономической зоны пока не развивается. По словам Геннадия Красникова, государство не отказывается от финансирования, но к активным действиям по проекту «65–45 нанометров» на «Микроне» перейдут примерно через полгода.

Источник: сайт ОАО "Ситроникс"


Возврат к списку